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等離子體光譜儀誤差的產生有哪幾方面的原因
等離子體光譜儀具有許多大型光譜儀所不具備的優(yōu)點，如重量輕、體積小、探測速度快、使用方便、可集成化、可批量制造以及成本低廉等，這使得該儀器在各領域具有很廣闊的應用前景。
精度始終是決定等離子體光譜儀測量的關鍵，分析的是被測樣品在各光波波長下吸收或反射的光強大小。而在實際光譜儀設計制造中會存在一定的誤差，這就很難用簡單的光柵公式直接預測波長的具體位置。
在等離子體光譜儀中，光波波長是由CCD像素所反映的，因此在實際測量中由于環(huán)境和時間的影響會引起光波波長與像素之間的變化，光譜儀中各CCD像素所對應的實際光波波長必須準確確定，否則測量的準確度就會降低。所以，為了得到準確的測量結果，光譜儀在使用前必須進行嚴格的標定，確定CCD像素和光波波長的對應關系。
根據(jù)等離子體光譜儀誤差的性質及產生原因，誤差可分為下面幾種：
一、系統(tǒng)誤差的來源
(1)標樣和試樣中的含量和化學組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
(2)標樣和試樣的物理性能不*相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產生系統(tǒng)誤差。
(3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結構不相同時，測出的數(shù)據(jù)會有所差別。
(4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
(5)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結果。
二、偶然誤差的來源
與樣品成分不均勻有關的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結構的不均勻性，導致不同部位的分析結果不同而產生偶然誤差。主要原因如下：
(1)熔煉過程中帶入夾雜物，產生的偏析等造成樣品元素分布不均。
(2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
(3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
(4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來降低分析誤差。
三、其他因素誤差
(1)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結果會變差。
(2)室內溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象，使分析結果不穩(wěn)定。